Pwosesis manifakti nan twal kondiktè sitou gen ladan etap sa yo kle:
Seleksyon materyèl anvan tout koreksyon ak pretratman: materyèl debaz la nan twal kondiktè se fib kondiktè, ki se sitou divize an de kategori: fib metal ak fib kabòn. Se fib metal sitou te fè nan ajan-plake fib alyaj kwiv ak yon dyamèt 8-12 mikron, ki gen karakteristik sa yo nan konduktiviti ki estab ak rezistans oksidasyon; Se fib kabòn te fè nan modifye polyacrylonitrile ki baze sou fib ki gen yon dyamèt 5-8 mikron, ki gen avantaj ki genyen nan pwa limyè ak rezistans korozyon. Twal baz la anjeneral itilize wo-fòs Polyester fib oswa fib nilon, ak konte a fil kontwole ant 40-60. Apre materyèl yo anvan tout koreksyon antre nan faktori a, yo bezwen yo dwe trete ak tanperati konstan ak imidite pou 48 èdtan asire ke kontni an imidite nan fib la ki estab ant 8%-10%.
Weaving: fib la kondiktè ak fil la twal baz yo ranje nan yon rapò nan 1: 3 lè l sèvi avèk yon machin warping pakèt, se vitès la deformation kontwole nan 200-250 mèt/minit, epi li se tansyon an chèn konsève nan 0. Se tise nan rapier itilize pou doub-kouch resi, ak kouch nan anwo yo te fib la kondiktè antrelaste kouch ak kouch ki pi ba yo te kouch nan baz sipò twal. When setting the loom parameters, the opening time is controlled at 290 degree -310 degree , and the weft beating force is set to 800-1000 N. During the weaving process, the uniformity of the conductive surface of the fabric is monitored in real time, and the surface resistance is tested with a non-contact resistance tester every half an hour, and the fluctuation range shall not exceed ± 15%. Post-pwosesis: twal la gri apre resi bezwen yo dwe trete pa yon machin lave kontinyèl. Likid la lave itilize yon savon net ak yon valè pH nan 6. 5-7. Apre lave, li antre nan machin nan anviwònman lè cho epi li se chalè-seri pou 3-5 minit nan yon tanperati ki nan 180-200 degre konplètman plon fib la kondiktè ak fib la twal baz. Imedyatman, se vakyòm sputtering kouch teknoloji yo itilize pou amelyorasyon konduktiviti segondè. Se twal la mete yo nan yon 10^-3 PA anviwònman vakyòm, ak yon 50-100 nanomèt epè endyòm oksid oksid kouch se respire depoze sou sifas la twal nan mayetron sputtering. Ka rezistans nan sifas nan twal la trete ap redwi.